宁波冠石半导体光掩模版制造项目正式投产!宁波前湾新区近日发布消息,宁波冠石半导体光掩模版制造项目于3月19日举行新品发布暨通线仪式,标志着该项目正式投产。
☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费无限量使用 DeepSeek R1 模型☜☜☜

(来源:宁波前湾新区发布)
宁波冠石半导体专注于半导体光掩模版制造。该项目自2023年5月签约,同年10月开工,仅用不到两年时间便完成建设并投产,固定资产投资超过10亿元,亩均有效投资强度超过1500万元。
2024年7月,宁波冠石半导体引进首台电子束掩模版光刻机,这是其40纳米技术节点量产和28纳米技术节点研发的关键设备。
光掩模版是微电子制造中光刻工艺的核心部件,如同相机的“底片”,承载着集成电路的设计和工艺信息。 目前,我国高精度半导体光掩模版严重依赖进口,国产化率极低。
宁波冠石已成功交付55纳米光掩模版产品,并实现40纳米产线通线,其产品将广泛应用于人工智能、高性能计算、新能源汽车和消费电子等领域。 这标志着我国半导体光掩模版国产化进程取得重大突破。










