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随着全球半导体制造技术向2nm进程迈进，EUV（极紫外光）光刻胶无疑是其中最关键且难以替代的部分。近期，美国计划对日本的高端材料征收进口关税，这不仅为供应链竞争增添变数，也为材料市场格局带来潜在的重构机会。
〈政策成为新变因，EUV成本压力首要因素〉
研究报告指出，若美国对来自日本的EUV与ArF光刻胶征收10～25%的关税，将导致进口价格上涨10～24%。以目前EUV光刻胶每加仑1500美元的价格计算，若征收25%的关税，2015年的最终成本将增加近400美元。
然而，由于EUV光刻胶技术要求高且使用环境极为严格，无法轻易替代。因此，即使关税导致成本上升，包括台积电、英特尔、三星等先进晶圆制造商仍需依赖日本供应商的稳定供货，以确保制造进度的良率和量产进度。这使得他们面临“被迫接受高成本”的现实困境。
若关税政策成为常态，或扩展至其他特种材料领域，可能会促使日本厂商在价格谈判、出货条件和地区设厂等方面进行政策调整，这将进一步影响全球特种材料供应链的区域布局和贸易结构。
〈EUV市场高速增长，美国需求红利浮现〉
全球光刻胶市场正进入结构性增长阶段，预计2025年市场价值将达到65～70亿美元，占全球半导体材料市场的8～10%。其中，适用于2nm和3nm制程的EUV光刻胶年复合增长率高达35%，远超其他ArF、KrF等成熟产品的4～5%。
美国光刻胶市场年均增长率达到6%，与全球平均水平相当，也接近中国大陆的7%。随着台积电在硅谷的工厂逐步扩产，预计到2027年，美国2nm制程产能将占全球的21%。这种需求结构的变化，使美国的光阻消费从“非主力市场”转变为“战略重点市场”。若关税制度加强，美国将大力推动原材料产能发展，或吸引日本大厂在美国设厂扩产，进一步推动光阻消费的本地化。
〈日厂稳居龙头，台厂切入时机浮现〉
EUV光刻胶技术要求高吸光率、低缺陷密度和高精密选择比等物理特性，且验证期长、量产门槛高，市场长期由JSR、东京应化、信越化学三大日本厂商垄断，市占率超过九成。虽然美系大厂如杜邦和陶氏在ArF、KrF领域有一定市场份额，但在EUV领域几乎无法与日本厂商竞争。高端光阻市场具有“高价值、高粘性、高进入壁垒”的特点，毛利率和对抗贡献极高。
由于进入壁垒高，若台湾厂商能掌握物资储备和客户验证节奏，将有机会从“代理角色”升级为“供应角色”。目前，台积电使用的光刻供应链主要来自三大日本厂商，崇越代理信越化学光阻产品，占比达四成。随着台积电扩产、信越市占率提升和美国需求转移，崇越作为代理商有望优先支援；新应材布局KrF光刻市场，预计2026年开始出货，并已进入2nm制程的BARC与EBR材料供应链，目标成为台湾首家出货核心光刻材料的厂商；家登（3680-TW）是全球EUV光罩盒龙头，作为台积电、ASML等大厂的主要供应商，随着EUV制程渗透率提升，光罩负载需求大增；其他如帆宣、意德士、永光等，受惠于台积电扩产和供应链本地化趋势，预计将随着全球EUV制程渗透率提升，推动营收和获利的长期增长机会。
〈材料卡位战，刚刚开始〉
当市场聚焦于晶圆设计和先进制造工艺时，决定制造工艺稳定性和良率的材料层往往被忽视。EUV光刻胶作为先进材料之一，其未来链变局将成为产业权力转移的前哨战。从目前趋势可以观察到三大关键：供应链重整速度、成本转嫁能力、谁能从“代理”升级到“供应”角色。未来，材料战略将更加重要，需要从结构性优势出发，了解材料问题的转变趋势，才能掌握全球先进制造进程的核心动力。
