8月29日消息，台积电2nm工艺技术外泄案近日正式侦结，共有3人被提起公诉，最高可面临14年有期徒刑，案件后果极为严重。
此案还牵涉到日本半导体设备大厂KEL威力科创。主犯陈某原为台积电员工，离职后加入该公司。作为全球领先的半导体设备供应商，KEL在业内具有举足轻重的地位。
事件曝光后，威力科创迅速将涉事员工开除，并发布声明称，经内部调查，目前未发现任何机密信息被泄露至第三方，也未发现公司存在组织性指使该前员工获取不当资料的行为。
虽然企业层面已明确划清界限，但外界普遍认为，KEL对台积电2nm制程技术的兴趣不言而喻。有分析指出，KEL与日本Rapidus存在合作关系，而Rapidus正致力于2nm工艺研发，计划于2027年实现量产。
不过，这一说法尚无确凿证据支持。考虑到台积电本身就是KEL的重要客户之一，为其竞争对手窃取技术显然风险极高。真正驱动此行为的核心因素，仍是商业利益——特别是争夺台积电2nm产线的设备订单，其中最关键的正是刻蚀设备订单。
提到半导体制造，公众往往聚焦于EUV光刻机。一台EUV设备售价高达1.5亿至2亿美元，而下一代High NA EUV更可能突破3至4亿美元。
然而，除光刻外，先进制程对刻蚀工艺的要求同样严苛。据悉，台积电一座2nm晶圆厂需配备超过100台刻蚀机，单台价格约300至400万美元，整体订单规模可达3至4亿美元以上，总价值甚至超过光刻机采购。
目前有能力角逐台积电2nm刻蚀设备订单的厂商仅有三家：日本KEL威力科创、美国LAM研究集团以及AM应用材料公司。他们将共同竞争台积电未来近10座2nm晶圆厂的设备供应资格。
在此背景下，KEL员工联合台积电内部人员获取工艺细节，极可能是为了提前优化设备方案，提升中标几率。归根结底，这起窃密案背后仍是巨额订单的商业博弈。
相较各种阴谋论，这一解释更为合理。但目前KEL已将责任归于个人行为，否认有任何高层授意或系统性参与。
至于KEL与台积电未来的合作关系，多年来的供应链默契不会轻易断裂。据悉，KEL社长近期或将亲自前往台积电协商，双方仍需就2nm设备采购展开谈判，最终结果无非是报价与条件的权衡。
