在半导体制造领域，工艺节点越先进，对光刻设备的要求也越高。尤其是5nm及以下制程的量产，几乎完全依赖EUV（极紫外）光刻机。目前全球范围内仅有ASML能够提供此类高端设备，因此台积电、三星、Intel等头部厂商均需向其采购。
那么，在这些行业巨头中，谁掌握的EUV光刻机数量最多？调研机构BOFA发布的数据显示了从2021年至2025年的EUV光刻机分布情况：
作为全球最大的晶圆代工企业，并且长期领跑先进制程的量产进度，台积电近年来一直是EUV设备的最大买家。除2024年仅引进10台外，其余年份平均每年采购约25台，累计已超过107台，是目前唯一EUV数量突破百台大关的企业。
三星早在7nm节点便宣布率先导入EUV技术进行量产，因此其采购节奏也较为积极。除今年仅购入3台外，此前每年维持在10至15台之间，累计达55台，位居第二位。
值得一提的是，三星不仅在逻辑芯片生产中广泛使用EUV，在DRAM等内存产品上也开始逐步引入该技术，进一步推高了设备需求。
SK海力士过去三年对EUV的投入较少，但近两年明显加速布局，集中订购了共计26台EUV光刻机，展现出强劲的增长势头。
Intel曾一度对EUV技术应用持保守态度，直到转向Intel 4工艺后才正式启用EUV。前任CEO帕特·基辛格推动的IDM 2.0战略中，甚至抢先全球下单下一代High NA EUV设备，成为首个签约客户。然而现任CEO陈立武上任后叫停了部分建厂计划，导致今年EUV采购为零。截至目前，Intel累计采购量为25台，比SK海力士少一台。
美光由于主营内存与NAND闪存产品，此前并未迫切需要EUV工艺支持，直到今年才首次购入5台，总量仍处于较低水平。
此外，有一家新兴企业不容忽视——日本Rapidus。尽管公司成立仅两年，却立下雄心壮志：目标在2027年实现2nm工艺的量产。 为此，他们已提前订购EUV光刻机用于研发，并在今年公开展示了2nm晶圆成果，技术进展引发关注。
一旦其技术路线顺利推进，未来对EUV光刻机的需求势必大幅上升。
